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1949年,伴随着新中国的诞生,中国科学院成立。
作为国家在科学技术方面的最高学术机构和全国自然科学与高新技术的综合研究与发展中心,建院以来,中国科学院时刻牢记使命,与科学共进,与祖国同行,以国家富强、人民幸福为己任,人才辈出,硕果累累,为我国科技进步、经济社会发展和国家安全做出了不可替代的重要贡献。 更多简介 +
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为此,科研人员采用高温助溶剂法生长了高品质毫米级 V4AlC3单晶,在室温条件下利用氢氟酸有选择性地刻蚀掉MAX相 V4AlC3单晶的Al层,成功制备了宏观尺寸V4C3Tx MXene二维材料(如图1所示)。该工作的开展不仅为V4C3Tx MXene本征光/电性质测试提供了材料基础,而且为其它种类大尺寸MXene的制备提供了借鉴,也为MXene材料在电子和光子器件中的实际应用提供了可能性。
本项研究工作得到国家自然科学基金和固体所所长基金的支持。
氢氟酸刻蚀V4AlC3单晶(左图)为V4C3Tx MXene(右图); V4AlC3晶体结构示意图(中图)。
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