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微电子所基于SiGe工艺的PLL测试成功
  文章来源: 发布时间:2007-05-06 【字号: 小  中  大   

    日前,在微电子所微波器件与集成电路科研人员的不懈努力下,基于GaAs PHEMT工艺的射频前端下变频模块和基于SiGe BiCMOS工艺的PLL测试双双取得成功,圆满完成了项目一期技术指标。

    下变频模块集成了低噪声放大器(LNA)、带通滤波器(BPF)和混频器(Mixer),其中LNA和Mixer均为100%自主开发,采用GaAs PHEMT工艺,性能指标优良。经测试,所得到的下变频模块的噪声系数仅为1.3dB,变频增益超过28dB。PLL采用SiGe BiCMOS工艺设计并一次流片成功,测试表明,该PLL能够锁定到所设计的频点,可以为下变频器提供信号质量良好、功率足够的本振信号,从而实现射频前端和GPS接收机的连接。基于SiGe BiCMOS工艺的下变频器正在测试当中。上述工作均为项目二期做了良好的技术积累。

    

    

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