6月24日，应中国科学院功能晶体与激光技术重点实验室邀请，英国剑桥大学P. D. Bristowe博士访问理化技术研究所，并作了题为Atomistic studies of interfacial failure in optical multilayer coatings的学术报告。

P. D. Bristowe博士在报告中介绍了光学多层薄膜中界面间相互作用的原子模拟研究进展。光学多层膜可以被用在建筑物玻璃上，以达到隔热的效果。但是在工业生产中发现光学多层薄膜中的低发射率金属薄膜（如Ag）和氧化物衬底（如ZnO）之间界面很弱，很容易发生剥离。Bristowe博士使用第一性计算方法密度泛函理论，系统地研究了Ag/ZnO的界面强度和形貌，并考虑了外界气体中的氢和水汽对界面力学性质的影响，发现去除这些气态杂质是在工业生产过程中提高Ag/ZnO界面强度的关键因素之一。同时，模拟和验证了在ZnO中掺杂Al可以有效地降低ZnO衬底的内应力以及对气态杂质的吸附，从而提升界面间的相互作用。这些微观尺度的研究工作对于光学多层薄膜的发展具有重要的意义。