近日，丹麦技术大学DANCHIP实验室( Danish Advanced Nanotech Center for Highly Integrated Production )的史沛熊博士访问了中科院微电子所，并与微电子所所长叶甜春及部分研究员、学生进行了交流。

    史沛熊博士于1992年从Aarhus University in Denmark获得博士学位，已发表30多篇技术论文，在微纳加工技术、电子束光刻和干法刻蚀领域有14年的研究经历，现担任专门从事纳米压印光刻技术研发的NIL Technology公司的首席生产经理。

    史沛熊博士介绍了DANCHIP实验室以及由他主管的JEOL JBX9300-FS电子束光刻系统的情况，交流介绍了各种电子抗蚀剂的特点及使用经验，之后与微电子所的部分师生就电子束光刻技术、刻蚀工艺、电子束曝光机的安装和维护等内容进行了深入讨论。

    此前，史博士与微电子所已开展了一年多的合作，利用DANCHIP实验室先进的JBX9300-FS电子束光刻系统，双方合作研制了线密度为10000线/毫米的EUV透射光栅，栅线宽度和周期分别为50和100nm，并成功应用于上海同步辐射光源EUV干涉光刻实验站。史博士的这次来访为微电子所JEOL JBX6300-FS电子束光刻系统的安装、调试、维护和工艺开发以及纳米加工水平的提升提供了宝贵的经验，并进一步加深了微电子所和丹麦技术大学之间的国际合作。