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EDA中心和美国企业联合举办“SoC设计技术研讨会”
  文章来源: 发布时间:2004-05-25 【字号: 小  中  大   

    5月19日,中国科学院EDA中心和美国Mentor Graphics公司在北京中科院文献中心举行先进“SoC设计技术研讨会” 。来自中科院所属研究单位的技术代表总计60人参加了本次会议。 EDA中心副主任叶青先生主持了本次会议。来自美国Mentor Graphics公司的Rober Kaye先生和来自亚太地区的资深技术顾问李世惠先生分别就SOC协同设计与验证及SOC验证方法学进行了专题报告,最后由Mentor Graphics中国的技术工程师对ADMS混合信号SOC仿真调试进行了演示。

    系统级芯片(SoC)在提升产品性能和质量的同时也为今天的芯片设计工程师带来前所未有的设计挑战:设计规模以及芯片复杂度迅速提升、工艺技术越来越精细、成本和风险越来越高、设计周期进一步缩短,更新换代则不断加快。以IP、设计复用和基于平台设计为突出特征的SoC设计高度关注分析和验证,业界权威的统计数据表明SoC设计中设计验证占用的时间和资源超过70%。基于业界的共识,中国科学院EDA中心和Mentor Graphics公司共同举办“先进SoC验证技术研讨会”,旨在向中科院系统的ASIC和SoC设计工程师介绍当今最先进的SoC验证方法学、流程和技术,以进一步促进中科院系统在SOC领域的深入应用。

    据悉,Mentor Graphics公司是全球著名的EDA(电子设计自动化)厂商之一。在中国大陆,Mentor公司在中国注册有全资子公司“明导(上海)电子科技有限公司”,并且拥有合作伙伴“奥肯思(北京)科技有限公司”共同处理中国大陆业务。

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