由中科院长春光机所、日本姬路工业大学联合主办的2001年极紫外光刻国际研讨会于8月29日至9月1日在长春召开。来自中、美、日等国家和地区的70多位专家学者参加了研讨会。
    研讨会由著名光学专家、两院院士王大珩先生任名誉主席，日本姬路工业大学木下博雄教授及长春光机所所长、应用光学国家重点实验室主任曹健林研究员任主席，并邀请国际知名专家、学者担任顾问委员会委员，20多位国内外专家在研讨会上做了学术报告。
    极紫外光刻和软X射线系统涵盖了从显微镜技术到天文学各领域的成像应用技术，紫外和深紫外成像技术的成功研制为现代光刻加工奠定了良好的基础。近来年，在该领域的关键单元技术上取得了突破性的进展，许多国家已进入工业样机的研制阶段，其中，美国组成了以LLNL、AMD、Intel及Motorila等为中心的联合体，共同研制<span lang="EN-US" style="font-size: 12.0pt; font-family: Symbol">b</span>级工业样机；日本组成了以姬路工业大学和先进电子技术开发机构(ASET)为中心的联合研究机构，开展极紫外投影光刻工业样机的研制工作，并在2000年复制出最小为0.056μm的图形。中科院长春光机所应用光学国家重点实验室在国家基金委信息科学部资助下，于2000年起开展“极紫外投影光刻中的光学问题研究”，经过一年多的时间，在激光等离子体光源技术、极紫外多层膜技术等方面研究上均取得显著成绩。
    与会专家学者对极紫外光刻光学系统的检测及装调、非球面加工及测量、激光等离子体光源、软X射线分束器的制备工艺等论题进行了研讨。此次研讨会的召开，为国内外软X射线光学和极紫外光刻成像技术领域专家学者提供了一次展示与学术交流的机会，拓宽了国际交流与合作的渠道，为进一步开展国际之间合作研究奠定了基础。(长春光机所)